무결점, 무전사 그래핀 성장에 대한 특허 기술

신소재공학과 윤순길 교수는 최근 ㈜ 위더스 테크에 무결점, 무전사 그래핀 성장에 대한 특허를 기술 이전했다(2018년 7월 19일).

현재까지 모든 대면적 그래핀은 고온(약 1,000℃)에서 성장해 다양한 기판에 전사해 사용하는데, 이때 발생하는 많은 결함들로 상용화에 걸림돌이 되어왔다.

윤순길 교수팀은 약 150℃ 이하에서 전사가 필요 없는 대 면적, 무결점 그래핀 성장에 성공했으며, 이번에 이 기술을 이전(1억 5백만원)했다. 이번 이전한 기술의 연구는 한국연구재단(2015-2020년)의 지원으로 진행됐으며, 국내 특허 3건과 미국 특허 2건이 포함되어 있다.

윤순길 교수는 향후 현재 4인치 wafer-scale의 그래핀을 ㈜ 위더스 테크의 지원을 통해 8인치 그래핀으로 성장하는 장비 구축(약 2억 7천만원)을 진행하고 있으며 이 연구가 성공하면 roll-to-roll 공정을 수행하여 상용화를 추진할 예정이다.

윤순길 교수는 “8인치 그래핀으로 성장하는 기술이 상용화되면 그래핀 성장 기술의 획기적 발전을 가져와 전자산업의 큰 페러다임을 형성할 것”이라고 말했다.